새소식 게시판읽기 ( [논문게재] 충남대학교 에너지과학기술대학원 신혜영 교수 연구팀의 연구 결과가 ’Applied Surface Science’지에 게재되었습니다. )

[논문게재] 충남대학교 에너지과학기술대학원 신혜영 교수 연구팀의 연구 결과가 ’Applied Surface Science’지에 게재되었습니다.
[논문게재] 충남대학교 에너지과학기술대학원 신혜영 교수 연구팀의 연구 결과가 ’Applied Surface Science’지에 게재되었습니다.
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조회수	886	등록일	2022.12.20
- A theoretical study of the atomic layer deposition of HfO₂ on Si(100) surfaces using tetrakis(ethylmethylamino) hafnium and water - Truong Ba Tai, Jihoon Son, Hyeyoung Shin^* - Applied Surface Science, 2023, 612, 155702 (IF: 6.86) - 2022.11.11, DOI: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.155702 본 연구에서는 Si(100) 표면 위에서 Atomic Layer Deposition (ALD)를 통해 HfO₂가 형성되는 반응 메커니즘과 표면 OH 농도에 따른 반응성을 규명했습니다. 전산모사 기법을 활용하여 서로 다른 OH 농도를 가진 두 가지의 Si 표면 모델에 대해 전구체인 Tetrakis ethylmethylamino hafnium (TEMAH)가 표면에 흡착되고 순차적인 리간드 반응이 일어나 최종적으로 HfO₂가 표면에 형성되는 과정과 그 반응성을 이론적으로 증명하였습니다.