[논문게재] 충남대학교 에너지과학기술대학원 장효식 교수 연구팀 & 신혜영 교수 연구팀 & 임종철 교수 연구팀에서 Investigation of tetrakis(ethylmethylamido)hafnium adsorption mechanism in initial growth of atomic layer deposited-HfO2 thin films on H-/OH-terminated Si (100) surfaces 연구 결과가 ’ Journal of Vacuum Science and Technology B’ 지에 게재되었습니다.
[논문게재] 충남대학교 에너지과학기술대학원 장효식 교수 연구팀 & 신혜영 교수 연구팀 & 임종철 교수 연구팀에서 Investigation of tetrakis(ethylmethylamido)hafnium adsorption mechanism in initial growth of atomic layer deposited-HfO2 thin films on H-/OH-terminated Si (100) surfaces 연구 결과가 ’ Journal of Vacuum Science and Technology B’ 지에 게재되었습니다.
작성자
관리자
조회수
483
등록일
2023.12.18
Jihye Park, Minji Jeong, Young Joon Cho, Kyung Joong Kim; Truong Ba Tai, Hyeyoung Shin, Jong Chul Lim, Hyo Sik Chang
본 연구는 나노 단위 박막 증착에 사용되는 ALD 공정을 통해 증착되는 박막의 물성을 향상시키기 위하여 초기 증착 메커니즘 연구를 하였습니다. OH표면기와 H표면기에서 반응을 FTIR을 통해 증착된 반응기를 분석하고, DFT 계산을 통해 이론적 메커니즘을 규명하였습니다. 이 연구를 응용하여 여러 전구체들과 표면에 따른 메커니즘 예측을 통해 ALD 성장의 개선이 기대됩니다.
